雙絲杠四立柱微機(jī)控制電液伺服壓力試驗(yàn)機(jī)整機(jī)主要由主機(jī)、伺服油源、電控柜及計(jì)算機(jī)打印機(jī)等組成。采用液壓加荷、油壓傳感器測(cè)力、PC機(jī)—電液伺服控制系統(tǒng)自動(dòng)控制試驗(yàn)進(jìn)程，微機(jī)屏幕顯示試驗(yàn)數(shù)據(jù)及曲線，可進(jìn)行數(shù)據(jù)處理、儲(chǔ)存及打印。
| 品牌 | 其他品牌 | 價(jià)格區(qū)間 | 2萬(wàn)-5萬(wàn) |
|---|---|---|---|
| 儀器種類 | 其他 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 建材/家具,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車及零部件 |
一、雙絲杠四立柱微機(jī)控制電液伺服壓力試驗(yàn)機(jī)主要技術(shù)參數(shù)：
系列 | YAW-D系列微機(jī)控制電液伺服壓力試驗(yàn)機(jī) | |
結(jié)構(gòu)形式 | 雙絲杠框架結(jié)構(gòu) | |
型號(hào) | YAW-2000D | YAW-3000D |
zui大試驗(yàn)力 | 2000KN | 3000 KN |
試驗(yàn)機(jī)級(jí)別 | 1級(jí) | |
試驗(yàn)力測(cè)量范圍 | 2%-100%FS | |
試驗(yàn)力示值相對(duì)誤差 | ≤示值的±1% | |
試驗(yàn)力分辨力 | 1/200000 | |
活塞行程（mm） | 0-200 | |
活塞空載上升zui大速度（mm/ min） | 約30 | 約20 |
等速應(yīng)力控制范圍(Mpa) | 1-10 | |
應(yīng)力速率誤差 | ≤±5% | |
控制方式 | 計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制 | |
安全保護(hù)裝置 | 機(jī)械限位保護(hù)和軟件過(guò)載保護(hù) | |
上下壓盤(pán)zui大距離（mm） | 500 | 1000 |
立柱凈間距(mm) | 540 | 560 |
壓縮輔具（mm） | 250×250 | 400×400 |
主機(jī)外型尺寸(mm) | 1050×650×2100 | 1000×1480×3400 |
油源控制柜外型尺寸(mm) |
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主機(jī)電源 | 3kW,AC380V±10%，三相四線 | 3kW,AC380V±10%，三相四線 |
主機(jī)重量（Kg） | 3200 | 6800 |
二、雙絲杠四立柱微機(jī)控制電液伺服壓力試驗(yàn)機(jī)功能用途：
YAW-D微機(jī)控制電液伺服壓力試驗(yàn)機(jī)主要用于水泥、混凝土、各種建筑用磚、橡膠墊、混凝土構(gòu)件、金屬構(gòu)件等材料的壓縮試驗(yàn)。
三 、結(jié)構(gòu)原理：
該壓力試驗(yàn)機(jī)整機(jī)主要由主機(jī)、伺服油源、電控柜及計(jì)算機(jī)打印機(jī)等組成。采用液壓加荷、油壓傳感器測(cè)力、PC機(jī)—電液伺服控制系統(tǒng)自動(dòng)控制試驗(yàn)進(jìn)程，微機(jī)屏幕顯示試驗(yàn)數(shù)據(jù)及曲線，可進(jìn)行數(shù)據(jù)處理、儲(chǔ)存及打印。
1、主機(jī)為雙絲杠框架結(jié)構(gòu)，橫梁通過(guò)安裝在其上的絲母與絲杠聯(lián)結(jié)。絲杠下端通過(guò)卡環(huán)、螺母與底座牢固聯(lián)結(jié)。安裝在橫梁上的電機(jī)，通過(guò)鏈輪鏈條帶動(dòng)絲母旋轉(zhuǎn)，改變電機(jī)旋轉(zhuǎn)方向后可使橫梁上下移動(dòng)。上壓盤(pán)通過(guò)螺釘聯(lián)接在橫梁上；壓塊將油缸固定在底座中央，活塞與工作臺(tái)通過(guò)螺釘聯(lián)結(jié)在一起，下壓盤(pán)、及球面座通過(guò)定位銷固定在工作臺(tái)上。當(dāng)控制油液進(jìn)入油缸后，推動(dòng)活塞連同固定工作臺(tái)及下壓盤(pán)上升，使試驗(yàn)力逐漸作用在試樣上。
2、液壓原理為負(fù)載適應(yīng)型進(jìn)油節(jié)流調(diào)速系統(tǒng)。油箱內(nèi)的液壓油通過(guò)電機(jī)帶動(dòng)意大利馬祖奇高壓齒輪泵進(jìn)入油路，流經(jīng)單向閥、高精度高壓濾油器、壓差閥組、伺服閥，進(jìn)入油缸。計(jì)算機(jī)發(fā)出控制信號(hào)到伺服閥，控制伺服閥的開(kāi)口和方向，從而控制進(jìn)入油缸的流量，實(shí)現(xiàn)等速試驗(yàn)力、相對(duì)位移等的控制。
